「從光裡經過」嚴友亨個展

安卓藝術很開心於 2025 年的仲夏，在畫廊衛星空間Project Room推出一位繪畫新秀嚴友亨的個展「從光裡經過」，展出藝術家近半年的最新創作。展覽的15件繪畫，關注影像過度曝光與失焦下的畫面表現，以畫筆留下這些不尋常的視覺效果，將我們日常熟悉的場景，透過影像與繪畫之間的轉譯詮釋出新的視角。目前仍就學於台灣藝術大學美術系碩士班的嚴友亨，畫裡散發出一股混合著靜謐、溫暖、幽微且懷舊的詩意，在視覺的閱讀與心靈的感受中令人著迷。展覽訂於8月 16 日至9月20日之間舉行，並於8月16日（週六）下午5點舉辦開幕茶會，我們誠摯歡迎您的蒞臨。

2001年出生的嚴友亨，是完全長成於21世紀數位科技和線上世界共構下的藝術家。這位年僅24歲的創作者，沒有選擇同儕愛好的虛擬世界和潮流藝術，反倒迷戀起20世紀傳統攝影與黑白電影中的類比語言，並從中汲取養分。這或許解釋了藝術家的畫作中所抒發的靜謐與懷舊氣質，也對應他在創作自述中所提：｢最初使用底片相機意外的拍攝出一張隔著玻璃，顯現出有些曝光、失焦、朦朧的相片，從而開始思考這個意外所產生的意義。一般來說，過度曝光、失焦的相片，對攝影而言是常被視為失敗的照片，但我卻被這些不尋常的視覺效果所迷戀著。有別於過往的創作專注於表現觀看當下所感受到的情感，這個階段我開始思考要將這意外所產生的視覺效果呈現出來，讓畫面變得有些陌生，並散發更多的奇異感，將這些日常熟悉的場景透過繪畫詮釋出新的視角。」